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关于棱镜耦合测试仪你的了解有多少?
更新更新时间:2021-08-28 点击次数:951
可以提供精确的、非接触、无损膜厚度测量,适用于薄膜厚度在2-100µm的聚合物材料、硅基氧化膜、硅基玻璃膜,在干涉条纹产生的基础上通过改变角度产生干涉条纹(VAMFO-变角度单色条纹观测)的方法。对于厚膜折射率的测量,单色光被直接照射到被测样品上,这样,从薄膜表面反射回来的光的干涉小值就会发生变化,光的入射角也会发生变化。在这种技术中,薄膜厚度是由两个干涉小值的角的位置计算出来的。对于这种测量条件——薄膜具有两个或两个以上的干扰小值——薄膜厚度必须大于低脱粒率,通常为2微米。样品夹持机采用真空从背面支撑样品,安装方便简单。可测量薄膜/基底的类型,硅衬底上几乎任何透明或半透明材料的氧化物、氮化物、介质、聚合物或薄膜。可测量的薄膜/衬底类型:氧化物、氮化物、介电材料、聚合物、或硅衬底上几乎任何透明或半透明材料的薄膜。
主要技术指标:
折射率准确度:±0.0005(甚至更高0.0001-0.0002)
折射率分辨率:±0.0003(甚至高于0.00005)
厚度精度:±(0.5%+50Å)厚度分辨率:±0.3%
折射率测量范围:1.0-3.35
操作波长:632.8nm,1310nm,1550nm以及其他可见光/近红外光
允许的基底材料:硅、砷化镓、玻璃、石英、GGG、蓝宝石、锂酸铌等
软件:windowsversion操作软件
输出:计算机显示和打印机输出
主要应用领域:
光波导器件
激光晶体材料
聚合物材料
显示技术材料
光/磁存储材料
光学薄膜